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导电
碳化硅衬底
切磨抛
代工服务
晶圆减薄
晶圆反抛
检测服务
导电碳化硅衬底

产品简介

衬底是所有半导体芯片的底层材料,起到物理支撑、导热、导电等作用。根据TrendForce的最新调查,由于电动汽车普及率的上升和800V高电压电动汽车架构的趋势,预计2025年全球汽车市场对6英寸导电型碳化硅衬底的需求将达到169万片。碳化硅衬底材料的上游供应将成为碳化硅功率器件生产的主要瓶颈,因为碳化硅衬底制造工艺复杂、技术准入门槛高、生长缓慢。绝大多数用于功率半导体器件的n 型碳化硅衬底的直径为 6 英寸。

 

未来展望
6英寸导电型碳化硅衬底在2027年前仍将是主流,随着电动汽车市场的爆发式增长,因此碳化硅功率器件在汽车应用中的渗透率远远超出市场预期,碳化硅衬底的取得能力与成本将反过来直接决定800V充电架构在电动汽车中的部署速度。
应用场景
碳化硅功率器件具有高电压、大电流、高温、高频率、低损耗等独特优势,将极大地提高现有使用硅基功率器件的能源转换效率,对高效能源转换领域产生重大而深远的影响。主要应用领域有电动汽车、充电桩、光伏新能源、轨道交通、智能电网等。
切磨抛代工服务
01
第一步·切割
使用线材进行切割,将晶体切削成片狀。
02
第二步·磨/抛
将前站造成的损伤层去除,并使晶片平坦度及粗糙度达到客户需求。
03
第三步·清洗/检测
去除加工过程中所残留的磨料及金属,并使用相关仪器检测平坦度、微粒及缺陷等资料,供客户追溯片子之品质。
晶圆减薄

产品简介
碳化硅晶圆薄化技术充分满足市场对半导体元件轻薄短小、高性能、节能之高度需求,广泛运用在HEMT、MOSFET、Schottky Diode等各种用途之中。

主要功能
(1)降低导通电阻

(2)提升散热效率


产品服务

6寸及8寸晶圆薄化

晶圆反抛

产品简介
晶圆厂与外延厂在制程中会使用相当数量的挡片、设备维护保养后的首片测试片、以及工艺中产生的不良品,经过去除金属(如果已经有线路)、研磨、精抛、CMP、清洗后,经过一系列等同标准片的检验手法,能确保质量符合客户再次利用。

我们可以为晶圆厂及外延厂提供晶圆反抛业务,由于碳化硅材料占功率器件生产成本五成,因此晶圆厂与外延厂都需要将合格的衬底回收后合理使用。


产品服务
6寸及8寸晶圆反抛

检测服务
专业检测设备,提供专业服务
ICP-MS/MS 8900
(电感耦合等离子体质谱仪):金属离子检测
Tropel
(平坦度量测设备):衬底片形貌检测,TTV、Bow 、Warp..等
Napson
(电阻量测仪):衬底片电阻测量
CANDELA 8520
(缺陷检测仪):衬底片缺陷检测,划伤、粉尘、pit、微管..等
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